EUV光刻机价格暴涨至近亿美元

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核心提示:ASML公司的EUV光刻机型共取得了六份订单,而上公司初期生产的EUV机型(机型代号NXE:3100,为alpha机型的下一代产品,采用LPP:Laser-Produced Plasma光源)都已经被订购一空,这款机型定于今年年底正式交货。据报道,这款机型的售价高达9000万美元。

 

多年以前,VLSI Research公司的总裁Risto Puhakka曾经预测称:“EUV光刻系统将乏人问津,其售价有可能提升到1.25亿美元的水平。”当时几乎所有的人都认为他是在满嘴跑火车,可是如今,越来越多的厂商开始停止采购这种系统用作生产。

 

ASML NXE:3100 EUV光刻机

 

ASML NXE:3100 EUV光刻机

 

2003年,EUV光刻系统当时的积极支持者Intel公司认为EUV光刻设备的目标定价应在2000万美元较为合适。目前各大半导体厂商普遍采用的是193nm沉浸式光刻系统(光波波长193nm,数据孔径值以ASML公司Twinscan NX1950i为例为1.35),而采用EUV光刻设备(波长13.5nm,数据孔径值以ASML公司ADT EUV Tool和Twinscan NXE3100为例均为0.25)的目的是待193nm沉浸式光刻系统不能满足产品生产要求时取而代之。

 

ASML公司的ADT(Alpha demo tool) EUV光刻机

 

ASML公司的ADT(Alpha demo tool) EUV光刻机

 

ASML公司的ADT(Alpha demo tool) EUV光刻机

 

不过,EUV光刻系统的推广普及日程多次延后,与此相对的是,系统的开发研制费用则成指数级增长,由此导致设备的制造成本已经完全失控。举例而言,ASML公司最早的EUV机型--alpha EUV光刻机(采用DPP:Discharge-Produced Plasma光源)的单价据报已经达到了6000万美元的水平,而IMEC和Sematach两家公司则是这种机型的首批两家用户。

 

尽管如此,EUV系统仍有一线生机。正像以前媒体所报道的那样,ASML公司的EUV光刻机型共取得了六份订单,而上公司初期生产的EUV机型(机型代号NXE:3100,为alpha机型的下一代产品,采用LPP:Laser-Produced Plasma光源)都已经被订购一空,这款机型定于今年年底正式交货。据报道,这款机型的售价高达9000万美元。

 

另外,据 Barclays Capital市调公司透露,除了初期的NXE:3000机型之外,荷兰ASML公司下一代EUV光刻机产品NXE:3300也取得了10份订单。有分析师分析,这款新机型的订购用户主要有Hynix,IMEC,Intel,三星,东芝以及台积电公司这几家。

 

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